半导体生产车间空气净化解决方案_高精密仪器车间空气过滤器选择

经过用于初级半导体制造的完好处理方案来进步工艺良率。

在半导体消费车间中，微净化会带来宏大的成绩。捷霖洁净提供了普遍的处理方案-颗粒预过滤器，HEPA和ULPA过滤器以及AMC控制处理方案-可以将无尘车间装修中的颗粒物和分子浓度降低到颗粒物的ISO 1级程度和AMC的亚ppb程度。

AMC过滤器和控制比无尘车间装修过滤更重要

空气传达的分子净化（AMC、对小尺寸半导体制造提出了特殊应战。酸，碱，无机物，耐火资料和掺杂剂的不良化学反响会影响晶片外表和工艺设备的光学器件，从而在芯片消费进程中发生缺陷，并降低设备和工具的效率。

在关键的无尘室制造进程中，AMC越来越重要。随着规格要求的进步和设备尺寸的减少，进程控制面临宏大的压力。晶圆可以在工厂内呆上一个月的工夫，在交付最终产品之前要经过数百个进程。该工艺链中任何巨大的净化影响都能够对晶圆厂的全体成品率形成严重影响。

另一个应战在于更大尺寸的晶圆的普遍化，这添加了单个晶圆的本钱，并添加了在工具级别对纳米颗粒和AMC维护的需求。此外，EUV和多图案DUV光刻中运用的无缺陷掩模的本钱不时下跌，这给设备以及小型环境（如反省设备和掩模库存机、的净化控制系统带来了压力。

维护您的工艺设备和晶圆免受纳米颗粒和空气中的分子净化物的损害

捷霖洁净处理方案在半导体制造环境中提供了经过现场和实验室验证的维护，包括光刻，蚀刻，分散，金属化，薄膜，离子注入，反省工具以及标线片或晶圆存储区。

工艺工具空气滤清器

无尘室空气过滤器

扫描仪预过滤系统

设备系统的节能高效排气处理方案

广州捷霖洁净的颗粒物预过滤器系列可确保在补充空气处置机组中运用最低的能量，同时避免HEPA过滤器梗塞并且不释放硼。经过多年的胶粘剂和介质化学功能的开展，捷霖洁净的HEPA和ULPA过滤器旨在释放出尽能够少的无机净化物（所谓的低放气、。用于晶圆切割的排气系统以及用于通用排气备用系统的气体洗濯器可以维护环境免受工艺净化。

无硼分解预滤器

低能量预过滤器

低放气的HEPA和ULPA过滤器

灰尘搜集器和气体洗濯器，可发生更清洁的废气